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铜靶材生产工艺以及铜靶材的注意事项

时间:2022-04-13 作者:北京瑞弛 点击:342次

  铜靶材目前广泛应用于电子、通讯、超导、航天等领域,并且铜靶材价格低廉,使得其成为真空镀膜职业中的主力军。因为真空镀膜职业的限制,对铜靶材的尺寸和形状要求严厉,因此必须严厉把关铜靶材生产工艺,下面就让北京瑞弛的小编为我们讲解一下铜靶材生产工艺。

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  一、铜靶材加工办法

  1、铸造法

  将一定成分配比的合金质料熔炼,再将合金溶液浇注于模具中,形成铸锭,经机械加工制成靶材,铸造法在真空中熔炼、铸造。常用的熔炼办法有真空感应熔炼、真空电弧熔炼和真空电子炮击熔炼等,其长处是靶材杂质含量(特别是气体杂质含量)低,密度高,可大型化;缺陷是对熔点和密度相差较大的两种或两种以上金属,普通熔炼法难以获得成分均匀的合金靶材。

  2、粉末冶金法

  将一定成分配比的合金质料熔炼,浇注成铸锭后再破坏,将破坏形成的粉末经等静压成形,再高温烧结,终形成靶材,其长处是靶材成分均匀。缺陷是密度低,杂质含量高等,常用的粉末冶金工艺包括冷压、真空热压和热等静压等。

  二、铜靶材加工注意事项

  1、铜矿石的分类

  炼铜的质料是铜矿石,铜矿石可分为三类。一是硫化矿如黄铜矿、斑铜矿和辉铜矿等。二是氧化矿如赤铜矿、孔雀石、硅孔雀石等。三是自然铜,铜矿石中铜的含量在1%左右的便有挖掘价值,选用浮选法能够把矿石中部分脉石等杂质除掉,而得到含铜量较高的精矿砂。

  2、粗铜的提纯

  粗铜再通过火法精粹或电解精粹而得到精铜。粗铜火度法精粹,直接生产含铜99.5%以粗铜火法精粹,直接生产含铜99.5%以上的精铜。该法仅适问用于金、银和杂质含量较低的粗铜,所产精铜仅用于对纯度要求不高的场答合。粗铜先通过火法精粹除掉部分杂质,浇粗铜先通过火法精粹除掉部分杂质,铸成阳极,再进行电解精粹,产出含铜99.95%以上,杂质含量到达标准的精铜属。

  3、高纯度铜材要求

  对变形处理后的高纯度铜材料进行机械加工,铜靶材加工要求精度高、表面质量高,加工成真空镀膜机所需的靶材尺寸就能够了,铜靶材与镀膜机多以螺纹相连接。有了高纯度铜锭作为原材料,对原材料进行铸造、轧制、热处理等,使铜锭内晶粒变细小、致密度增加以满意溅射所需铜靶材的要求。