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磁控溅射靶材的分类以及应用有哪些

时间:2022-05-11 作者:北京瑞弛 点击:258次

  1、磁控溅射方式:

  磁控溅射可以分为: 直流溅射、中频溅射、射频溅射

  A、直流溅射电源廉价,堆积膜层致密度较差,一般国内光热、薄膜电池选择运用的办法,能量较低,溅射 靶材为导电的金属靶材。

  B、 射频溅射能量较高,溅射靶材可以是不导电的靶材,也可认为导电的靶材。

  C、中频溅射靶材可以陶瓷靶材,也可认为金属靶材。

  2、溅射靶材的分类与运用

  溅射靶材品种繁多,靶材的分类办法也不尽相同,依据形状分为长靶材、方靶材、圆靶材;依据成份可分为金属靶材、合金靶材、陶瓷化合物靶材;依据应用领域不同可分为半导体关联陶瓷靶材、记载介质陶瓷靶材、显示陶瓷靶材等。溅射靶材首要应用于电子及信息工业,如信息存储工业,在这个工业中,运用溅射靶材制备相关的薄膜产品(硬盘、磁头、光盘等)。目前。随着信息工业的不断发展,市场上对记载介质陶瓷靶材的需求量越来越大,记载介质靶材的研究与生产成为被广泛关注的焦点。