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溅镀靶材和铝靶材效果

时间:2022-08-10 作者:北京瑞弛 点击:617次

  溅镀靶材是在电子基板上以原子水平附着合金或金属氧化物等物质、形成薄膜的电子材料。其中,黑化膜用溅镀靶材是在有机EL或液晶面板上成膜使配线黑化,降低TFT配线的可见光反射率(低反射化)而使用的。溅镀靶材具有以下优点和效果,与以往产品相比,有助于提高各种显示器高精细化程度和设计自由度,以及降低半导体相关产品等配线反射光引起的噪音。

靶材,合金靶材,铝合金靶材,铝靶材

  铝靶材优点和效果:

  (1)铝靶在配线上成膜后能够实现可见光的低反射化

    与以往产品相比,能够实现低反射化。

  (2)不需要反应性气体,能够进行DC溅镀

    与以往产品相比,有助于实现大型基板的膜的均质性。

  (3)成膜后,能够与配线一起进行蚀刻加工

    根据客户的现有蚀刻工序调整材料,不变更现有工序,能够与配线一起进行蚀刻。另外,本公司也会结合客户的溅镀条件提供支持。

  (4)耐热性优异,且耐水、耐碱

    除耐水、耐碱外,还具有高耐热性,所以在TFT配线加工工序中,膜的特性不会发生变化。