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金属靶材
高纯铪靶材
高纯铪靶材

高纯铪靶材

铪的原子序数72,原子量178.49,熔点2227℃,沸点4602℃,密度13.31g/cm³,单质是一种带光泽的银灰色的过渡金属,铪不与稀盐酸、稀硫酸和强碱溶液作用,但可溶于氢氟酸和王水。...

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产品类别

金属靶材

产品简称

Hf

产品全称

hafnium

产品纯度

99.9%,99.95%,99.99%

产品形状

平面靶,柱状靶,电弧靶,异型靶

生产工艺

Vacuum Melting,PM

最大尺寸

L≤2000mm,W≤200mm

高纯铪靶材产品详情:

铪的原子序数72,原子量178.49,熔点2227℃,沸点4602℃,密度13.31g/cm³,单质是一种带光泽的银灰色的过渡金属,铪不与稀盐酸、稀硫酸和强碱溶液作用,但可溶于氢氟酸和王水。

铪溅射靶材的应用:引入氧气分压,可以用磁控溅射或反应溅射铪溅射靶,制备氧化铪薄膜。所得薄膜可用于多种用途,包括用于光子学的光学涂层、薄膜电阻、耐腐蚀性、核产品、集成电路中的栅极绝缘体和传感器。

北京瑞弛高科技有限公司专业提供铪靶材,可以根据客户要求定制,如需要更多的信息,敬请联系我们。


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