1、磁控溅射方式：
磁控溅射可以分为: 直流溅射、中频溅射、射频溅射
A、直流溅射电源廉价，堆积膜层致密度较差，一般国内光热、薄膜电池选择运用的办法，能量较低，溅射 靶材为导电的金属靶材。
B、 射频溅射能量较高，溅射靶材可以是不导电的靶材，也可认为导电的靶材。
C、中频溅射靶材可以陶瓷靶材，也可认为金属靶材。
2、溅射靶材的分类与运用
溅射靶材品种繁多，靶材的分类办法也不尽相同，依据形状分为长靶材、方靶材、圆靶材;依据成份可分为金属靶材、合金靶材、陶瓷化合物靶材;依据应用领域不同可分为半导体关联陶瓷靶材、记载介质陶瓷靶材、显示陶瓷靶材等。溅射靶材首要应用于电子及信息工业，如信息存储工业，在这个工业中，运用溅射靶材制备相关的薄膜产品(硬盘、磁头、光盘等)。目前。随着信息工业的不断发展，市场上对记载介质陶瓷靶材的需求量越来越大，记载介质靶材的研究与生产成为被广泛关注的焦点。
