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溅射靶材的纯度对镀膜会有哪些影响?

时间:2022-04-02 作者:北京瑞弛 点击:141次

  当基板进入高真空镀膜室时,假如靶材不行纯洁,在电场和磁场的效果下,溅射靶材中的杂质颗粒会附着在基板表面。这会影响薄膜的牢固性,甚至会导致薄膜层脱落。因此,靶材纯度越高,涂膜性能越好。

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  以铜 (Cu) 溅射靶材为例。在制备铜溅射靶时,不可避免地会引进硫、铅等其他杂质含量。微量的硫能够防止热加工时晶粒尺度增大或产生微裂纹;但当硫元素含量高于18 ppm时,会呈现微裂纹;跟着两种杂质元素(硫和铅)含量的添加,靶材裂纹的数量和电弧放电的数量会添加。因此,应尽可能降低靶材中的杂质含量,以提高薄膜的均匀性。

  关于导热性较差的靶材,如SiAl靶材,由于靶材杂质的存在,会阻止传热,导致靶材在使用过程中开裂。一般情况下,轻微的裂纹不会对镀层出产产生很大影响,但是当靶材呈现显着裂纹时,电荷很容易会集在裂纹边缘,导致靶材反常放电。放电现象会导致夹渣、成膜反常、产品作废添加。因此,在靶材的制备过程中,应操控靶材的纯度。