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铬合金靶材
铬硅合金靶材
铬硅合金靶材

铬硅合金靶材

铬硅靶材是由高纯硅、铬熔炼铸造得到的中间合金,再精细破碎成粉,经过仔细的混粉,包套,抽真空,热等静压得到CrSi锭坯,经过机械加工得到客户需要的产品。...

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产品类别

合金靶材

产品简称

CrSi

产品全称

Chrome silicon

产品纯度

99.9%,99.95%,99.99%

产品形状

平面靶,柱状靶,电弧靶,异型靶

生产工艺

Vacuum Melting,PM

最大尺寸

L≤1000mm,W≤200mm

产品细节:

铬硅靶材是由高纯硅、铬熔炼铸造得到的中间合金,再精细破碎成粉,经过仔细的混粉,包套,抽真空,热等静压得到CrSi锭坯,经过机械加工得到客户需要的产品。

铬硅电阻薄膜是指一种常用的高阻薄膜材料。具有电阻率高、稳定性好、电阻温度系数小等特点。Cr和Si可以生成多种硅化物如Cr3Si , Cr5Si3, , CrSi , CrSi2等,铬硅电阻薄膜的性能与制备工艺、膜的成分、热处理工艺等密切相关。控制硅化物结构,可得到各种电性能材料。

北京瑞弛高科技有限公司专业提供铬硅靶材,可以根据客户要求定制,如需要更多的信息,敬请联系我们。


标签: 合金靶材

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