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关于磁控溅射靶材的种类的都有哪些?

时间:2022-05-18 作者:北京瑞弛 点击:263次

  随着市场的需求增加,现在越来越多的溅射靶材种类不断的更新出现,有一些是客户比较熟悉的,也有一些是客户不熟悉的,现在北京瑞弛的小编就和大家一起分享一下,关于溅射靶材的种类的都有哪些?

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  溅射靶材:金属溅射镀膜靶材,合金溅射镀膜靶材,陶瓷溅射镀膜靶材,硼化物陶瓷溅射靶材,碳化物陶瓷溅射靶材,氟化物陶瓷溅射靶材 ,氮化物陶瓷溅射靶材 ,氧化物陶瓷靶材,硒化物陶瓷溅射靶材 ,硅化物陶瓷溅射靶材 ,硫化物陶瓷溅射靶材 ,碲化物陶瓷溅射靶材 ,其他陶瓷靶材,掺铬一氧化硅陶瓷靶材(Cr-SiO),磷化铟靶材(InP),砷化铅靶材(PbAs),砷化铟靶材(InAs)。

  磁控溅射一般分为二种:直流溅射和射频溅射,其中直流溅射设备原理简单,在溅射金属时,其速率也快。而射频溅射的使用范围更为广泛,除可溅射导电资料外,也可溅射非导电的资料,溅射靶材同时还司进行反应溅射制备氧化物、氮化物和碳化物等化合物资料。若射频的频率提高后就成为微波等离子体溅射,目前常用的有电子回旋共振(ECR)型微波等离子体溅射。