关于溅射靶材这款产品，想必已经很多用户已经听说过了，但是对于溅射靶材的原理应该是相对来说是比较陌生的，现在北京瑞弛的小编分享一下关于溅射靶材磁控溅射原理都有哪些?
在被溅射的靶极(阴极)与阳极之间加一个正交磁场和电场，在高真空室中充入所需要的惰性气体(一般为Ar气)，永久磁铁在靶资料外表构成250～350高斯的磁场，同高压电场组成正交电磁场。
在电场的效果下，Ar气电离成正离子和电子，靶上加有一定的负高压，从靶极发出的电子受磁场的效果与作业气体的电离几率增大，在阴极附近构成高密度的等离子体，Ar离子在洛仑兹力的效果下加速飞向靶面，以很高的速度炮击靶面，使靶上被溅射出来的原子遵循动量转化原理以较高的动能脱离靶面飞向基片淀积成膜。
磁控溅射一般分为二种：支流溅射和射频溅射，其中支流溅射设备原理简单，在溅射金属时，其速率也快。而射频溅射的使用范围更为广泛，除可溅射导电资料外，也可溅射非导电的资料，同时还司进行反应溅射制备氧化物、氮化物和碳化物等化合物资料。若射频的频率提高后就成为微波等离子体溅射，现在常用的有电子回旋共振(ECR)型微波等离子体溅射。
