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溅射靶材在真空镀膜中的作用都有哪些

时间:2022-06-02 作者:北京瑞弛 点击:76次

  真空电镀中溅射靶材的选用一直是人们比较关心的问题,目前,随着溅射镀膜特别是磁控溅射镀膜技能的日益发展,能够说对任何资料都能够经过离子轰击靶材制备薄膜,因为靶材被溅射的过程中将其涂覆到魔种基片上,对溅射膜的质量有着重要的影响,因而,对靶材的要求也更加严厉。下面我们就和北京瑞弛的小编一同学习一下,关于溅射靶材在真空镀膜中的作用都有哪些?

靶材,溅射靶材,溅射靶材的作用

  一、靶材的选用原则及其分类

  在靶材选用上,除了应按膜本身的用处进行选择外,还应考虑如下几个问题:

  问题1、根据膜的用处与性能要求,所用的靶材有必要满足纯度、杂志含量、组分均匀性、机械加工精度等技能要求。

  问题2、靶材成膜后应具有良好的机械强度和化学稳定性;

  问题3、作为反响溅射成膜的膜材有必要易与反响气体生成化合物膜;

  问题4、靶材与基体集合有必要结实,否则应采取与基体具有较好结合力的膜材,先溅射一层底膜再进行所需膜层的制备;

  问题5、在满足膜性能要求的前提下,靶材与基体的热膨胀系数的差值越小越好,借以减小溅射膜热应力的影响;

  、几种常用靶材的制备

  (1)铬靶

  铬作为溅射膜材不光易与基材结合有很高的附着力,并且铬与氧化物生成CrQ3膜时,其机械性能、耐酸性能、热稳定性能都较好。

  北京瑞弛高科技有限公司主要经营:钛靶 锆靶,铝靶,镍靶,铬靶,钨靶,钼靶,铜靶,硅靶,铌靶,钽靶,钛硅合金靶,钛铌合金靶,钛钨合金靶,钛锆合金靶,镍铬合金靶,硅铝合金靶,镍钒合金靶,铬铝硅三元合金靶,钛铝硅三元合金靶材等,广泛应用于装饰/硬面和功用镀膜、建筑玻璃、平面显示/光学光电、光存储、电子、印刷等职业。