真空电镀中溅射靶材的选用一直是人们比较关心的问题，目前，随着溅射镀膜特别是磁控溅射镀膜技能的日益发展，能够说对任何资料都能够经过离子轰击靶材制备薄膜，因为靶材被溅射的过程中将其涂覆到魔种基片上，对溅射膜的质量有着重要的影响，因而，对靶材的要求也更加严厉。下面我们就和北京瑞弛的小编一同学习一下，关于溅射靶材在真空镀膜中的作用都有哪些?
一、靶材的选用原则及其分类
在靶材选用上，除了应按膜本身的用处进行选择外，还应考虑如下几个问题：
问题1、根据膜的用处与性能要求，所用的靶材有必要满足纯度、杂志含量、组分均匀性、机械加工精度等技能要求。
问题2、靶材成膜后应具有良好的机械强度和化学稳定性;
问题3、作为反响溅射成膜的膜材有必要易与反响气体生成化合物膜;
问题4、靶材与基体集合有必要结实，否则应采取与基体具有较好结合力的膜材，先溅射一层底膜再进行所需膜层的制备;
问题5、在满足膜性能要求的前提下，靶材与基体的热膨胀系数的差值越小越好，借以减小溅射膜热应力的影响;
二、几种常用靶材的制备
(1)铬靶
铬作为溅射膜材不光易与基材结合有很高的附着力，并且铬与氧化物生成CrQ3膜时，其机械性能、耐酸性能、热稳定性能都较好。
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