靶材在各个职业的广泛使用，使得人们对靶材的需求越来越高。下面北京瑞弛的小编就为大家简略的介绍一下什么是靶材的首要功能要求，希望对大家有所帮助。
纯度：纯度是靶材的首要功能指标之一，因为靶材的纯度对薄膜的功能影响很大。不过在实际使用中，对靶材的纯度要求也不尽相同。例如，随着微电子职业的迅速发展，硅片尺度由6”, 8“发展到12”, 而布线宽度由0.5um减小到0.25um,0.18um乃至0.13um，曾经99.995%的靶材纯度能够满足0.35umIC的工艺要求，而制备0.18um线条对靶材纯度则要求99.999%乃至99.9999%。
密度：为了减少靶材固体中的气孔，提高溅射薄膜的功能，通常要求靶材具有较高的密度。靶材的密度不仅影响溅射速率，还影响着薄膜的电学和光学功能。靶材密度越高，薄膜的功能越好。此外，提高靶材的密度和强度使靶材能更好地承受溅射过程中的热应力。密度也是靶材的要害功能指标之一。
杂质含量：靶材固体中的杂质和气孔中的氧气和水气是堆积薄膜的首要污染源。不同用途的靶材对不同杂质含量的要求也不同。例如，半导体工业用的纯铝及铝合金靶材，对碱金属含量和放射性元素含量都有特殊要求。
