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钴合金靶材
钴铌锆合金靶材
钴铌锆合金靶材

钴铌锆合金靶材

钴铌锆靶材是用于真空镀膜行业溅射靶材中的一种,是由高纯钴、铌、锆经过高真空熔炼得到铸坯,再经加工得到的产品,具有特定的尺寸和形状的高纯钴铌锆材料,安装在真空镀膜机上,溅射成膜。CoNbZr合金靶材溅射得到的纳米晶磁性薄膜,与多晶态薄膜,主要是钴Co,钴铁C...

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产品详细参数如下:

产品类别

合金靶材

产品简称

CoNbZr

产品全称

Cobalt niobium zirconium

产品纯度

99.9%,99.95%,99.99%

产品形状

平面靶,柱状靶,电弧靶,异型靶

生产工艺

Vacuum Melting

最大尺寸

L≤200mm,W≤200mm

钴铌锆合金靶材产品详情:

  钴铌锆靶材是用于真空镀膜行业溅射靶材中的一种,是由高纯钴、铌、锆经过高真空熔炼得到铸坯,再经加工得到的产品,具有特定的尺寸和形状的高纯钴铌锆材料,安装在真空镀膜机上,溅射成膜。CoNbZr合金靶材溅射得到的纳米晶磁性薄膜,与多晶态薄膜,主要是钴Co,钴铁CoFe和坡莫合金NiFe三种磁性薄膜,其中的非磁性隔离层是铜Cu等贵金属材料形成的三明治膜层,具有极薄的总体厚度(10nm左右),较大的磁阻效应(10%以上),稳定的单畴态,优越的翻转特性,翻转场均匀性偏差<8%,是生产RAM、MRAM等存储器件的重要的膜层材料。

钴铌锆合金靶材.png

  北京瑞弛高科技有限公司提供钴铌锆靶材,可以根据客户要求定制,如需要更多的信息,敬请联系我们。



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