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金属靶材
铬靶
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铬靶
铬靶
铬靶

铬靶

生产的铬靶材采用先进的热等静压(HIP 工艺生产,产品包括矩形靶、圆弧靶、环形靶和大长径比整体成形管靶等类型,具有纯度和密度可控、晶粒细小均匀、使用寿命长等优点。 应用领域:工具镀膜、装饰镀膜、电子行业、平面显示器行业等。...

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铬靶产品详细参数:


铬靶Chromium target

性能Product performance

纯度/%

Purity

      99.5

99.95

密度/g/cm3

Density

       7.12

7.12

晶粒度/μm

Grain size

       100

100

金属杂质总和/ppm

Total content of metallic impurities

        5000

500

热导率/W/m.K

Thermal conductivity

       60

100

热膨胀系数/1/K

Coefficient of thermal expansion

         8×10-6

8×10-6


铬靶产品详情介绍:

  生产的铬靶材采用先进的热等静压(HIP)工艺生产,产品包括矩形靶、圆弧靶、环形靶和大长径比整体成形管靶等类型,具有纯度和密度可控、晶粒细小均匀、使用寿命长等优点。

  应用领域:工具镀膜、装饰镀膜、电子行业、平面显示器行业等。