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铜合金靶材
铜锰合金靶材
铜锰合金靶材

铜锰合金靶材

铜锰合金靶材是以高纯铜、锰经熔炼得到,靶材晶粒尺寸细小均匀,靶材硬度高,溅射过程中抗变形能力强,使用寿命长,极大的提高了靶材的利用率,节省靶材更换以及机台维护所需的时间和精力,最大限度的降低了半导体厂家的生产成本。...

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产品类别

合金靶材

产品简称

CuMn

产品全称

Copper manganese

产品纯度

99.9%,99.95%,99.99%

产品形状

平面靶,柱状靶,电弧靶,异型靶

生产工艺

Vacuum Melting

最大尺寸

L≤200mm,W≤200mm

产品细节:

铜锰合金靶材是以高纯铜、锰经熔炼得到,靶材晶粒尺寸细小均匀,靶材硬度高,溅射过程中抗变形能力强,使用寿命长,极大的提高了靶材的利用率,节省靶材更换以及机台维护所需的时间和精力,最大限度的降低了半导体厂家的生产成本。

铜锰还可以用来熔炼锰黄铜、锰白铜等,锰元素主要作用是固溶于铜中,起到较好的强化作用,可显着提高黄铜的强度、硬度,可较好地承受热、冷压力加工,并能显著提升黄铜在海水、氯化物和过热蒸汽中的耐腐蚀性。锰黄铜的颜色与锰的含量有关,随着锰含量增加,逐渐由红变黄,由黄变白。

北京瑞弛高科技有限公司专业提供铜锰靶材,可以根据客户要求定制,如需要更多的信息,敬请联系我们。


标签: 合金靶材

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