北京瑞弛高科技有限公司
24小时咨询热线:4006991969         18600758298     
联系我们
北京瑞弛高科技有限公司
全国免费服务热线:400-699-1969
销售热线:010-62256731
技术咨询:18600758298
邮箱:sales@rsmaterial.com
地址 :北京市海淀区交大东路46号301A,301B
联系人:穆先生
您的位置: 首页>>行业新闻>>正文
行业新闻

合金靶材的溅射原理有哪些

时间:2022-03-17 作者:北京瑞弛 点击:273次

  对合金靶材的溅射类镀膜,能够简略理解为使用电子或高能激光轰击靶材,并使外表组分以原子团或离子方式被溅射出来,而且Z终沉积在基片外表,经历成膜进程,Z终构成薄膜。

  溅射镀膜又分为很多种,全体看,与蒸发镀膜的不同点在于溅射速率将成为首要参数之一。   溅射镀膜中的激光溅射镀膜pld,组分均匀性简略保持,而原子标准的厚度均匀性相对较差(由于是脉冲溅射),晶向(外沿)成长的操控也比较一般。

合金靶材,合金靶材溅射原理

  以pld为例,要素首要有:    靶材与基片的晶格匹配程度   镀膜气氛(低压气体气氛)   基片温度   激光器功率   脉冲频率   溅射时刻   对于不同的溅射材料和基片,Z佳参数需求实验承认,是各不相同的,镀膜设备的好坏首要在于能否精确控温,能否保证好的真空度,能否保证好的真空腔清洁度。